2025-06-26 17:41:16超級(jí)管理員 49

電子芯片制造是現(xiàn)代高科技產(chǎn)業(yè)的核心環(huán)節(jié)，而超純水在這一過程中扮演著至關(guān)重要的角色。光刻環(huán)節(jié)需要超純水作為清洗劑，任何微小的雜質(zhì)都可能導(dǎo)致光刻圖案缺陷；晶圓清洗過程直接關(guān)系到芯片的成品率和可靠性；化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)后清洗對(duì)水質(zhì)的要求同樣極高；超純水還用于制備各種工藝化學(xué)品和作為冷卻介質(zhì)。本文將為您分享電子芯片制造中工業(yè)EDI模塊超純水設(shè)備應(yīng)用。

工業(yè)EDI模塊系統(tǒng)在芯片廠的配置方案

一套完整的芯片廠超純水系統(tǒng)通常采用多級(jí)處理工藝。原水經(jīng)過多介質(zhì)過濾器和活性炭過濾器去除懸浮物和有機(jī)物，通過兩級(jí)RO裝置去除97%-99%的溶解鹽。RO產(chǎn)水進(jìn)入EDI模塊進(jìn)行深度脫鹽，EDI模塊產(chǎn)水再經(jīng)過紫外氧化、精混床拋光、超濾等最終處理，達(dá)到芯片生產(chǎn)要求的超純水標(biāo)準(zhǔn)。

在大型芯片廠，EDI模塊系統(tǒng)通常采用多模塊并聯(lián)設(shè)計(jì)，模塊數(shù)量根據(jù)水量需求可達(dá)數(shù)十甚至上百個(gè)。例如，某國際知名芯片企業(yè)在華的12英寸晶圓廠，其超純水系統(tǒng)配置了80個(gè)EDI模塊，單模塊產(chǎn)水量為5m3/h，系統(tǒng)總產(chǎn)水量達(dá)400m3/h。該系統(tǒng)采用N+1冗余設(shè)計(jì)，確保任何單個(gè)模塊故障不影響整體供水。控制方面采用PLC+SCADA全自動(dòng)控制，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)關(guān)鍵參數(shù)如電阻率、壓力、流量等，并與工廠CIM系統(tǒng)聯(lián)網(wǎng)。

為確保EDI模塊系統(tǒng)穩(wěn)定運(yùn)行，預(yù)處理系統(tǒng)的可靠性至關(guān)重要。RO系統(tǒng)必須保持較高的脫鹽率(通常>98%)和回收率(75%-85%)，進(jìn)水COD應(yīng)<0.5mg/L，余氯<0.01mg/L。此外，完善的清洗系統(tǒng)也是必不可少的，包括化學(xué)清洗系統(tǒng)和熱水消毒系統(tǒng)，可定期清除膜表面的污染物和微生物。

智能化是EDI模塊系統(tǒng)的另一重要發(fā)展方向。基于物聯(lián)網(wǎng)的預(yù)測(cè)性維護(hù)系統(tǒng)通過分析歷史運(yùn)行數(shù)據(jù)，可提前數(shù)周預(yù)測(cè)膜堆性能衰減；人工智能算法動(dòng)態(tài)優(yōu)化運(yùn)行參數(shù)，在保證水質(zhì)前提下最大限度節(jié)能；數(shù)字孿生技術(shù)實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)虛擬調(diào)試和故障模擬。這些創(chuàng)新不僅提高了系統(tǒng)可靠性，還降低了人工干預(yù)需求。如果您想了解更多新能源電池生產(chǎn)凈水方案相關(guān)的資訊，歡迎隨時(shí)在本網(wǎng)站留言或來電咨詢相關(guān)資訊！感謝您認(rèn)真閱讀！

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